日本芯片原料遇阻：反傾銷調查背後的半導體市場本土化加速；
調查啟動：價格下滑與進口激增的背景
我國商務部門於2026年1月7日宣布，對原產於日本的二氯矽烷進口產品啟動反傾銷調查。這一舉措源於唐山三孚電子材料公司的申請，該公司提交證據顯示，2022年至2024年間，日本二氯硅烷對我國進口量呈現明顯上升趨勢，而價格累計下跌31%。期間，日本產品在我國市場平均佔有率接近72%，主要供應商包括信越化學、Air Liquide Japan和三菱化學集團。這些數據表明，進口產品的低價策略可能對本土產業造成實質傷害。
液化空氣日本公司
調查範圍涵蓋2024年7月1日至2025年6月30日的進口行為，產業傷害審查則追溯至2022年1月1日至今。整個過程預計在2027年1月7日前完成，但可延長六個月。這種程序性調查旨在維護市場公平，同時反映出半導體材料領域競爭的加劇。類似舉措在全球貿易中並不罕見，但此次針對關鍵芯片原料的行動，引發了供應鏈穩定的廣泛關注。
二氯硅烷分子結構圖：展示化學成分細節，突出其在半導體工藝中的基礎作用
二氯硅烷的核心作用：半導體薄膜沉積的關鍵材料
二氯硅烷（SiH₂Cl₂）是一種高純度化學品，主要應用於芯片製造中的薄膜沉積過程。它用於外延生長、碳化矽（碳化矽）、氮化矽、氧化矽和多晶矽薄膜的製備，這些薄膜是邏輯芯片、存儲芯片、模擬芯片等的核心組成部分。高純度二氯硅烷確保芯片性能穩定和產量提升，因為任何雜質都可能導致缺陷放大，影響最終產品的可靠性。
在實際工程中，二氯硅烷通過化學氣相沉積（CVD）或原子層沉積（ALD）工藝轉化為薄膜層。這種材料的高科技屬性在於其純度要求，通常需達到99.9999%（6N級）以上，以匹配先進制程如7nm以下節點的需求。全球高純度二氯硅烷市場長期由日本企業主導，但本土公司已逐步跟進，這為調查提供了產業基礎。
工程技術洞察：高純度生產的挑戰與本土突破
生產高純度二氯硅烷涉及複雜的提純和合成工藝，主要挑戰在於去除雜質和控制反應條件。傳統方法使用矽粉與氯化氫反應，但需多級蒸餾和吸附步驟以達到電子級標準。日本公司在這一領域積累深厚，憑藉精密設備和專利技術維持優勢。然而，本土企業如唐山三孚和優科科技近年來實現了技術躍進，已能生產6N級或更高純度的產品，並通過主要芯片製造商的驗證。
這種進步源於對供應鏈本土化的投入，包括改進反應器設計和廢氣處理系統，以提升產量並降低環境影響。相比之下，進口依賴曾使我國半導體產業面臨供應風險，但本土產能的擴張正逐步緩解這一問題。工程細節顯示，純度提升不僅依賴材料科學，還需集成自動化控制，以確保批次一致性。這些技術迭代直接影響芯片製造的成本和效率，推動行業向更精細化方向發展。
二氯硅烷在半導體工藝中的反應示意圖：展示薄膜沉積過程，強調工程應用的複雜性
市場影響分析：供應鏈調整與全球競爭
此次調查可能導致進口關稅調整，促使芯片製造商重新評估供應鏈。短期內，價格波動或加劇本土企業的市場份額爭奪，而日本供應商需應對潛在的出口限制。全球半導體市場數據顯示，我國作為最大消費地，本土電子化學品自給率僅15-20%，但調查或加速這一比例的提升。相關企業如信越化學的股價已出現波動，反映出市場對貿易摩擦的敏感。
從更廣層面看，這與中日貿易緊張相關，包括稀土出口管制等舉措。供應鏈調整可能推動多元化採購，如轉向韓國或歐洲來源，但二氯硅烷的寡頭市場結構使替代不易。本土產能的增長有助於穩定供應，但需克服規模化生產的瓶頸，以避免短期短缺影響下游芯片產量。
半導體氣體檢測設備圖：突出二氯硅烷等材料在芯片生產中的安全與純度管理
發展趨勢展望：本土化進程與技術獨立
半導體材料市場正向本土化和技術自主傾斜。預計到2027年，本土二氯硅烷產能將進一步擴張，受益於政策支持和研發投資。這將刺激工程創新，如開發更環保的合成路徑和更高純度標準，以匹配5nm及以下製程需求。全球趨勢顯示，供應鏈本土化已成為共識，尤其在關鍵材料領域，以應對地緣風險。
然而，市場也面臨挑戰：原材料成本上漲和國際合作減少可能延緩技術轉移。本土企業需加強與下游芯片廠的協作，以優化應用反饋循環。這些變化將逐步重塑全球半導體格局，推動從進口依賴向均衡發展的轉型。
此次反傾銷調查雖聚焦價格問題，但它揭示了半導體材料本土化的實際進展，以及市場競爭對工程創新的推動作用。